理学（博士）, 東京工業大学

電子線レジスト
上野巧
高分子, 141-142, 2011年

半導体用ウエハコート耐熱高分子
上野巧
材料の科学と工学, 45, 43-47, 2008年

Influence of Viscosity on Photopolymerization in Film as Studied by Real Time FTIR
A. Nicolas and T. Ueno
J. Photopolym. Sci. Technol., 20, 141-142, 2007年, 査読有り

Low Temperature Curing of Polyimide Precursors by Variable Frequency Microwave
H. Matsutani, T. Hattori, M. Ohe, et al.
J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 327-332, 2005年, 査読有り

Dissolution inhibitory effect of urea additives on a carboxyl polymer through a supramolecular structure
Y. Maekawa, T. Ueno, T. Miwa,et al.
J. Photopolym. Sci. Technol., 11, 533-537, 1998年, 査読有り

光の短波長化とレジスト開発
上野巧
化学と工業, 50, 1736-1739, 1997年

Negative Resists Using Acid-catalyzed dehydration of phenylcarbinols: correlation between chemical structure and resist sensitivity
K. Kojima, S. Uchino, N. Asai et al.
Chem. Mater., 8, 2433-2438, 1996年, 査読有り

Delay-free deprotection approach to robust chemically amplified resist
T. Hattori, A. Imai, R. Yamanaka et al.
J. Photopolym. Sci. Technol., 9, 611-617, 1996年, 査読有り

Highly sensitive electron-beam negative resists utilizing phenylcarbinol as dissolution-inhibitor precursor
S. Migitaka, S. Uchino, T. Ueno etal.
J. Photopolym. Sci. Technol., 9, 685-690, 1996年, 査読有り

リソグラフィ用レジスト
上野巧
O plus E, 183, 77-82, 1995年

KrF trilayer resist system using azide-phenol resin resist
N. Asai , A. Imai, T. Ueno et al.
J. Photopolym. Sci. Technol., 7, 23-27, 1994年, 査読有り

Chemical amplification resists for future lithography
T. Ueno, H. Shiraishi, S. Uchino et al.
J. Photopolym. Sci. Technol., 7, 397-403, 1994年, 査読有り

Nanometer-scale imaging characteristics of novolak resin-based chemical amplification negative resist systems and molecular weight distribution effects of resin matix
H. Shiraishi, T. Yoshimura, T. Sakamizu et al.
J. Vac. Sci. Technol. B, 12, 3895-3900, 1994年, 査読有り

次世代リソグラフィ用レジスト材料
上野巧
光学, 23, 632-635, 1994年

Development of positive electron-beam resist for 50 kV electron-beam direct-writing lithography
T. Sakamizu, H. Yamaguchi, H. Shiraishi et al.
J. Vac. Sci. Technol. B, 11, 2812-2816, 1993年, 査読有り

Chemical amplification positive deep ultraviolet resist by means of partially tetrahydropyranyl-protected polyvinylphenol
T. Hattori, L. Schlegel, A. Imai et al.
Opt. Eng., 32, 2368-2373, 1993年, 査読有り

化学増幅型レジストの現状と将来
上野巧
表面技術, 44, 485-488, 1993年

Bisazidobiphenyl / novolak resin negativeresist systems for i-line phase-shifting lithography
K. T. Hattori, T. Hattori, S. Uchino et al.
Jpn. J. Appl. Phys., 31, 4307-4310, 1992年, 査読有り

Acid-catalyzed reactions of tetrahydropyranyl-protected polyvinylphenol in a novolak-resin-based positive resist
T. Sakamizu, H. Shiraishi, H. Yamaguchi et al.
Jpn. J. Appl. Phys., 31, 4288-4291, 1992年, 査読有り

Acid formation from various sulfonates in a chmical amplification resists
T. Ueno, L. Schlegel, N. Hayashi et al.
Polym. Eng. Sci., 32, 1511-1517, 1992年, 査読有り

化学増幅系エキシマ対応レジスト
上野巧
Semiconductor World, 1992(1), 181-184, 1992年

Dissolution inhibition of phenolic resins by diazonaphthoquinone: effect of polymer structure
T. Hattori, T. Ueno, H. Shiraishi et al.
Jpn. J. Appl. Phys., 30, 3125-3130, 1991年, 査読有り

化学増幅系レジスト
上野巧
表面, 29, 439-444, 1991年

[化学増幅]単層で0.3μm 線／間隔実現にメド 下地依存性と安定性が課題
上野巧
日経マイクロデバイス, 1991(5), 75-77, 1991年

90SPIEレポート 最新レジストレジストプロセス
上野巧
Semiconductor World, 1990(5), 65-66, 1990年

DeepUVリソグラフィ用化学増幅系レジスト材料
上野巧
Semicon NEWS, 1989(12), 24-27, 1989年

Materials and processes for deep-UV lithography
T. Iwayanagi, T. Ueno, S. Nonogaki et al.
Adv. Chem. Ser, 218, ch.3, 1988年

ペニング衝突過程
上野 巧、籏野嘉彦
応用物理, 47, 1006-1016, 1978年

フォトレジスト材料の新展開
共著
シーエムシー出版, 71-83,197-210 2009年

ポリイミドの高性能化と応用技術
共著
サイエンス＆テクノロジー, 2008年

電子線リソグラフィ教本
横山監修, 共著
オーム社, 93-114 2007年

最新ポリイミド材料とその応用技術
共著
シーエムシー出版, 2006年

半導体・液晶ディスプレイフォトリソグラフィ技術ハンドブック
石橋、上野、鵜飼ほか編集, 共著
リアライズ理工センター, 320-330 2006年

高分子材料・技術総覧
大武ほか122名, 共著
産業技術サービスセンター, 432-435 2004年

はじめての半導体リソグラフィ
岡崎他１名, 共著
工業調査会, 209-275 2003年

光と化学の事典
徳丸他112名, 共著
丸善, 252-254,460-463,494-497 2001年

21世紀の有機材料の展望
有機エレクトロニクス研究会編、谷口他13名, 共著
ワークショップ（ぶんしん出版）, 49-66 2001年

新しい半導体製造プロセスと材料
大見忠弘監修、大見他30名, 共著
シーエムシー, 50-67 2000年

Microlithography Fundamentals in Semiconductor Devices and Fabrication Technology
S. Nonogaki, T. Ueno, and T. Ito, 共著
Marcel Dekker Inc., 11-24,65-132,159-228 1998年

Microlithography
J. Sheats編、J.Sheats他14名, 共著
Marcel Dekker Inc., 429-514 1998年

光機能性高分子材料の新展開
市村國弘監修、市村他22名, 共著
シーエムシー, 119-140 1996年

半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック
山岡亜夫監修、上野、田中、中瀬編集、山岡他18名, 共著
リアライズ社, 67-77 1996年

PLASICS AGE ENCYCLOPEDIA＜進歩編＞
共著30名, 共著
プラスチックス・エージ, 60-68 1996年

Ｇビット時代へのリソグラフィ技術
青木他29名, 共著
リアライズ社, 150-153 1995年

薄膜作製応用ハンドブック
権田俊一監修　共著132名, 共著
エヌ・ティー・エス, 510-528 1995年

ULSIリソグラフィ技術の革新
滝川,岡崎,森本編,著者18名, 共著
サイエンスフォーラム, 294-296 1994年

ULSIプロセス材料実務便覧
津屋英樹、津屋他50名, 共著
サイエンスフォーラム, 148-153 1992年

レジスト材料•プロセス技術
野々垣他21名, 共著
技術情報協会, 104-112 1991年

短波長フォトレジスト材料
上野巧, 岩柳隆夫, 野々垣三郎ほか, 共著
ぶんしん出版, 172-201 1988年